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半导体

应用摘要

电感耦合等离子体质谱分析法是将电感耦等离子体(ICP)技术和质谱(MS)技术结合起来, 利用等离子体作为离子源,由接口将等离子体中被电离了的试样离子引入质谱仪,用质谱仪对离子进行质量分析(按m/Z比值将不同的离子分开)并检测记录,根据所得质谱图进行定性定量分析。

电感耦合等离子体质谱分析法是将电感耦等离子体(ICP)技术和质谱(MS)技术结合起来, 利用等离子体作为离子源,由接口将等离子体中被电离了的试样离子引入质谱仪,用质谱仪对离子进行质量分析(按m/Z比值将不同的离子分开)并检测记录,根据所得质谱图进行定性定量分析,具有以下几个优点:

(1)灵敏度高:ICP-MS仪器的灵敏度一般高出lCP-AES一到两个数量级,从而对多数元素能达到更低的检出限:

(2)动态线性范围宽:

(3)可多元素同时分析;

(4)分析速度快,单个样品一般在几秒钟内完成:

(5)分析元素范围广,能分析元素周期表中除碳、氢、氧外的绝大多数元素。

正因为这些优点,使ICP-MS分析技术广泛应 用于半导体工业用高纯材料的痕量杂质分析中。主要进行的高纯材料分析

1. IC硅片表面杂质分析

2. 光伏多晶硅、单晶硅杂质分析

3. 三氯氢硅、四氯化硅中金属杂质金属元素.

4. 超净纯试剂分析:氢氟酸、硝酸、硫酸、盐酸、氨水、双氧水等超纯无机试剂,和异丙醇(IPA)、丙酮、四甲基氢氧化铵(TMAH),N-甲基吡咯烷酮(NMP)、丙二醇甲基醚乙酯(PGMEA)等超纯有机试剂

5. 超纯水分析

6. 高纯气体分析

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